Hochtemperaturbeständige keramische Düsen für Prozesstemperaturen von 1200°C in der LED-Industrie

Hochtemperaturbeständige keramische Düsen für Prozesstemperaturen von 1200°C in der LED-Industrie

Speziell für LED-Herstellungsprozesse entwickelt, wird dieses Produkt mit 99,8% hochreinem Siliziumnitrid (Si3N4) durch Präzisionsgasdrucksinterierung hergestellt.mit hoher Reinheit, Hochtemperaturbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit, um den strengen Anforderungen an MOCVD-Ausrüstung gerecht zu werden.

Anwendungen für die Herstellung von LED

• MOCVD-Ausrüstung: Genaue Verteilung der MO-Quelle und des NH3-Gases

• Epitaxialer Wachstum: Einheitliche Gasinjektion in Reaktionskammern

• Herstellung von Chips: Schutzgasversorgungssysteme

• Verpackungsprozess: Phosphorspray-Atomisierung

• Prüfungsausrüstung: Optische Gaskontrolle

Vorteile der LED-Industrie

✓ Sehr hohe Sauberkeit: Metallionengehalt < 1 ppm
✓ Hochtemperaturbeständigkeit: 1200°C Prozesstemperatur
✓ Null Gasverschmutzung: Keine Partikelemissionen
✓ Präzise Durchflussregelung: Durchflussgenauigkeit ± 1%
✓ Verlängerte Lebensdauer: Übertragen 5000 Wärmezyklen

LED-spezifische Parameter

Sauberer Herstellungsprozess

1. Materialvorbereitung:

   • Nano-Pulver (D50≤0,3μm)

   • Staubfreie Kugelfräsen (Class 10 Reinraum)

2. mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm

   • Isostatisches Pressen (200MPa)

   • Ultra-reine Sinterung (Umgebung der Klasse 100)

3. Nachbearbeitung:

   • Plasma-Reinigung (Oberflächenentschmutzung)

   • Ultraschall-DI-Wasserreinigung

4. Verpackung:

   • Doppelvakuumverpackungen

   • ISO-Klasse 4 saubere Beutel

Anwendungsrichtlinien

️ Installation: Betrieb in Reinräumen der Klasse 100 erforderlich
️ Gaskontrolle: Verwenden Sie 99,999% hochreine Gase
️ Temperaturmanagement: Heizgeschwindigkeit ≤ 5°C/min
Wartung: Heliumleckage-Test alle 500 Stunden

Spezialisierte Dienstleistungen

• Erweiterte Garantie: 18 Monate

• Reinheitsprüfung: Prüfung der Freisteilenemissionen

• Schnelle Reaktion: 12 Stunden technischer Support

• Prozessoptimierung: Simulation des Gasstromfeldes

Häufig gestellte Fragen

F: Wie kann die Reinheit der MO-Quelle gewährleistet werden?
A: Drei Sicherheitsmaßnahmen:
1 Si-Passivierung an der Oberfläche
2 Klasse 100 saubere Verpackungen
3 Plasma-Reinigung vor der Installation

F: Handhabung von Düsenverstopfungen?
A: Empfohlen:
• 200W Ultraschall + DI Wasserreinigung
• Keine mechanische Reinigung der Stange
• Professionelle Reinigungsdienste zur Verfügung

F: Kompatibilität mit verschiedenen Epitaxialschichten?
A: Anpassungsoptionen:

• Strukturen mit mehreren Löchern

• Graduelle Bohrgrößenentwürfe

• Spezielle Winkelkonfigurationen

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